3月1日，中國證券監(jiān)督管理委員會按法定程序同意拓荊科技股份有限公司（以下簡稱“拓荊科技”或“公司”）首次公開發(fā)行股票的注冊申請。
拓荊科技是國內(nèi)唯一一家產(chǎn)業(yè)化應用的集成電路 PECVD、SACVD 設(shè)備廠商，其聚焦的半導體薄膜沉積設(shè)備與光刻機、刻蝕機共同構(gòu)成芯片制造三大主設(shè)備，主要產(chǎn)品包括等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）設(shè)備、原子層沉積 （ALD）設(shè)備和次常壓化學氣相沉積（SACVD）設(shè)備三個產(chǎn)品系列，已廣泛應用于國內(nèi)晶圓廠14nm及以上制程集成電路制造產(chǎn)線，并已展開10nm及以下制程產(chǎn)品驗證測試。拓荊科技公司產(chǎn)品已廣泛用于中芯國際、華虹集團、長江存儲、長鑫存儲、 廈門聯(lián)芯、燕東微電子等國內(nèi)主流晶圓廠產(chǎn)線。
拓荊科技此次發(fā)行擬募集10億元用于高端半導體設(shè)備擴產(chǎn)項目、先進半導體設(shè)備的技術(shù)研發(fā)與改進項目、ALD設(shè)備研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項目以及補充流動資金。致力于擴大公司現(xiàn)有生產(chǎn)基地的產(chǎn)能水平，為公司在上海臨港新建研發(fā)生產(chǎn)場地。建立貼近市場、提供具有快速響應客戶需求的研發(fā)生產(chǎn)能力。實現(xiàn)產(chǎn)品的產(chǎn)業(yè)化，進一步提升產(chǎn)品技術(shù)水平和拓展產(chǎn)品應用領(lǐng)域，推動公司業(yè)務規(guī)模的持續(xù)增長。
君桐資本熱烈祝賀拓荊科技科創(chuàng)板IPO注冊獲批，并祝愿拓荊科技的未來越來越好！
