原子級(jí)制造是通過(guò)原子級(jí)增材、減材、等材技術(shù)制造原子級(jí)產(chǎn)品實(shí)現(xiàn)性能和功能躍遷的使能技術(shù)，對(duì)信息、新材料、生命健康等產(chǎn)業(yè)的發(fā)展具有戰(zhàn)略支撐作用，是賦能新型工業(yè)化、建設(shè)制造強(qiáng)國(guó)的關(guān)鍵技術(shù)。原子級(jí)制造技術(shù)可以形成新質(zhì)生產(chǎn)力，將為推動(dòng)科學(xué)研究提供全新的手段和平臺(tái)，將解決傳統(tǒng)制造業(yè)面臨的諸多瓶頸問(wèn)題。
近日，2024（第一屆）原子級(jí)制造論壇在北京舉辦。大會(huì)以“推動(dòng)原子級(jí)制造技術(shù)發(fā)展，推動(dòng)未來(lái)產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新”為主題，匯聚來(lái)自國(guó)家自然科學(xué)基金委、工業(yè)和信息化部高新技術(shù)司、中國(guó)科學(xué)院、中國(guó)電子信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展研究院，一眾國(guó)內(nèi)頂尖院校、先進(jìn)制造廠商等行業(yè)主管部門、產(chǎn)業(yè)界、教育界和投資界的400余名代表。
原子層沉積（ALD）是一種基于表面自限反應(yīng)實(shí)現(xiàn)材料逐原子層堆疊沉積的技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)材料生長(zhǎng)的原子級(jí)精度控制，已經(jīng)發(fā)展成為原子級(jí)制造的一個(gè)重要分支。作為原子層沉積（ALD）的技術(shù)先鋒，思銳智能受邀出席本次大會(huì)，并在演講中分享ALD技術(shù)的工業(yè)應(yīng)用現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢(shì)。
“ALD設(shè)備是先進(jìn)集成電路制造工藝中必不可少的薄膜沉積設(shè)備，在厚度和組分控制精度、均勻性、適應(yīng)立體結(jié)構(gòu)方面具有明顯優(yōu)勢(shì)。特別在集成電路特征線寬發(fā)展到28納米節(jié)點(diǎn)后，ALD工藝應(yīng)用日益廣泛。截至目前，包括集成電路（例如邏輯和存儲(chǔ)芯片）、化合物半導(dǎo)體、圖像傳感器，以及光電子、光伏等新型工業(yè)領(lǐng)域均可受益于ALD?！?/span>
面向這一前沿市場(chǎng)，思銳智能推出了TransformTM系列工業(yè)量產(chǎn)型ALD全自動(dòng)平臺(tái)，可適配Si基集成電路成熟工藝、化合物半導(dǎo)體、光電子領(lǐng)域等需求，也可支持客戶集成電路先進(jìn)工藝研發(fā)，在歐洲、北美、日本和中國(guó)大陸及臺(tái)灣等地區(qū)實(shí)現(xiàn)了重復(fù)訂單，廣受業(yè)界好評(píng)。
設(shè)備是制造業(yè)的基礎(chǔ)，思銳智能提供覆蓋工業(yè)和科研領(lǐng)域的原子層沉積裝備產(chǎn)品，有助于原子級(jí)制造產(chǎn)業(yè)構(gòu)建從研發(fā)階段到規(guī)?；慨a(chǎn)的新型生產(chǎn)線。與此同時(shí)，思銳智能通過(guò)多個(gè)渠道加強(qiáng)產(chǎn)學(xué)研用合作，推動(dòng)創(chuàng)新鏈、產(chǎn)業(yè)鏈、資金鏈、人才鏈“四鏈”融合，加快推進(jìn)新型工業(yè)化，賦能形成并發(fā)展先進(jìn)程度躍遷的新質(zhì)生產(chǎn)力。
